Effect of mechanical anisotropy on material removal rate and surface quality during polishing CdZnTe

• 作 者: LI Yan JIE Wanqi KANG Renke GA
• 机 构: StateKeylaboratoryofSolidificationProcessing,KeyLaboratoryforPrecisionandNon-TraditionalMachiningTec
• 出 处: 稀有金属：英文版
• 发表日期: 2011年4期
• 关键词: 材料去除率 表面质量 各向异性 抛光试验 机械 碲锌镉 CDZNTE晶体 晶圆 cadmium compounds single crystals nano
• 基金项目: supported by the Key Project of the National Natural Science Foundation of China (No. 50535020),,the Fund of the State Key Laboratory of Solidification Processing in Northwestern Polytechnical Univers

CdZnTe 水晶的机械人物被机械 anisotropy 的 nanoscratch 测试，和效果在材料移动率上调查，表面质量被擦亮测试学习。有在擦伤的早阶段的摩擦系数的一座山峰，并且相应地在山峰价值的增加增加垂直力量愿望结果。摩擦系数的变化现象在高垂直的力量被产生。侧面的力量显示出明显的双重、三方面的对称在上(110 ) 并且(111 ) 飞机分别地。获得高表面质量，低擦亮压力和难方向，并且完成高材料([“ 1 ] bar 110 个方向在上( 110 )飞机并且 11 [” 2 ] bar