【摘 要】
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日本沖电气工业公司采用MOCVD(有机金属化学气相沉积)法在计酸锶基片上制成厚约100nm的钇系高温超导薄膜,形成薄膜的基片温度比普通的低150℃。 该法的特点是将氧气的供给源
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日本沖电气工业公司采用MOCVD(有机金属化学气相沉积)法在计酸锶基片上制成厚约100nm的钇系高温超导薄膜,形成薄膜的基片温度比普通的低150℃。 该法的特点是将氧气的供给源由氧气换为氧化亚氮,这样即使在低温下也易于获取氧气。 利用MOCVD法制得的薄膜,具有在通常基片
Japan’s Oki Electric Industry Company MOCVD (organic metal chemical vapor deposition) method in acid strontium substrate made of about 100nm yttrium-based high-temperature superconducting thin film, the film-forming substrate temperature lower than ordinary 150 ℃. This method is characterized by changing the supply of oxygen from oxygen to nitrous oxide so that oxygen is easily obtained even at low temperatures. Thin films made by the MOCVD method have a typical substrate
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