基底旋转速度对射频溅射法制备Al掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响

来源 :中国有色金属学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhouyonge
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采用射频溅射法于室温在玻璃基底上制备了铝掺杂ZnO(AZO)薄膜,研究了基底旋转速度(ωS)对薄膜形态、结构、光学和电学性质的影响。扫描电子显微镜横向图片显示,通过基底旋转能够产生致密的柱状结构。原子力显微镜图像表明,基底旋转状态下形成的样品其表面颗粒比基体静止状态下的颗粒小且致密,从而导致细小的晶粒尺寸。XRD结果表明,所有薄膜均为六方纤锌矿结构,c轴择优取向且分布有拉应力。紫外可见光区平均透光率在90%以上。当ωS=0r/min时,电阻率处于最低值(8.5×10.3Ω·cm),载流
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