四羧基铝酞菁与硫酸庆大霉素相互作用的共振散射光谱及其分析应用

• 作 者: 杨兰玲 唐宁莉 王秋红
• 机 构: 桂林工学院材料与化学工程系
• 出 处: 分析试验室
• 发表日期: 2009年8期
• 关键词: 硫酸庆大霉素 四羧基铝酞菁 共振散射 Gentamycin sulfate Tetra-substituted carboxyl aluminum phtha

在弱酸性介质中，四羧基铝酞菁和硫酸庆大霉素本身的共振散射（RLS）均较弱，但两者相互作用形成离子缔合物时，RLS显著增强，在350～500nm之间有一个强散射带，最大散射峰位于401nm。而且散射强度与硫酸庆大霉素的浓度成正比，可用于硫酸庆大霉素的定量测定，线性范围为0．025～1．5μg/mL，检出限0．018μg/mL。方法可用于市售硫酸庆大霉素注射液含量的测定。