【摘 要】
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极端紫外光刻(EUVL)作为实现100～32nm特征尺寸微细加工的优选技术，其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODEV对6枚非球面反射镜构成的光刻物镜
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极端紫外光刻(EUVL)作为实现100～32nm特征尺寸微细加工的优选技术，其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODEV对6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能分析．其分辨力可以实现50nm，曝光面积为26mm×1mm。结果表明，光学性能对曝光场点的依赖关系。在全曝光场中进行了光学性能分析，其最大畸变为3．77nm，最大波面差为0．031λ(均方根值)，该缩小投影物镜完全可以满足下一代极端紫外光刻机的性能要求。
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