【摘 要】
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采用射频等离子体化学气相沉积设备，以CF4为反应气体，进行了无水胶印版材斥墨层制备的实验。研究了不同等离子体参数（功率、气压和时间）对聚合薄膜性能的影响，并通过接触角、红外
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采用射频等离子体化学气相沉积设备，以CF4为反应气体，进行了无水胶印版材斥墨层制备的实验。研究了不同等离子体参数（功率、气压和时间）对聚合薄膜性能的影响，并通过接触角、红外光谱、扫描电子显微镜对薄膜表面结构和性能的表征，对等离子体工艺进行优化，得到了表面疏水性能良好的低表面能薄膜。推墨实验结果表明，所聚合的薄膜基本达到斥墨层的要求，用含氟等离子体技术制备无水胶印版材斥墨层的技术路线是可行的。
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