【摘 要】
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采用反应磁控溅射制备了Ti Al N/VN纳米多层膜,并使用X射线衍射分析（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、纳米压痕仪和多功能摩擦磨损试验机对多层膜的微结构与力学
【机 构】
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中南大学航空航天学院,中南大学新型特种纤维及其复合材料湖南省重点实验室
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采用反应磁控溅射制备了Ti Al N/VN纳米多层膜,并使用X射线衍射分析（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、纳米压痕仪和多功能摩擦磨损试验机对多层膜的微结构与力学和摩擦学性能进行了表征和分析。研究结果表明：不同调制周期的Ti Al N/VN多层膜均呈典型的柱状晶生长结构,插入VN层并没有打断Ti Al N涂层柱状晶的生长。在一定调制周期下,Ti Al N/VN纳米多层膜中的Ti Al N和VN层之间能够形成共格生长结构,其硬度和弹性模量相比于Ti Al N单层膜均有显著提升,
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