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光电子集成电路的未来进步主要取决于Ⅲ-Ⅴ族材料的合成技术,特别是汽相外延和分子束外延技术的持续进展,以及各种材料加工技术的发展。本文将对此作比较详尽的叙述。
光电子集成电路材料制作工艺的进展
【摘 要】
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光电子集成电路的未来进步主要取决于Ⅲ-Ⅴ族材料的合成技术,特别是汽相外延和分子束外延技术的持续进展,以及各种材料加工技术的发展。本文将对此作比较详尽的叙述。
【机 构】
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机电部44所四川永川
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1991年2期
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