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介绍了流动注射（ＦＩ）－氢化物发生（ＨＧ）与等离子体原子发射光谱（ＩＣＰ－ＡＥＳ）联用技术以及应用于电解铜中痕量砷、锑、铋测定的研究，本法的ＲＳＤ对砷、锑、铋分别为２．３、１．８、２．８％（ｎ＝１１），方法的检出限分别为０．３、０．３、１．１５μｇ／ｇ。
流动注射—氢化物发生—等离子体原子发射光谱法同时测定电解铜中痕量砷,锑
【摘 要】
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介绍了流动注射（ＦＩ）－氢化物发生（ＨＧ）与等离子体原子发射光谱（ＩＣＰ－ＡＥＳ）联用技术以及应用于电解铜中痕量砷、锑、铋测定的研究，本法的ＲＳＤ对砷、锑、铋分别为２．３、１．８、２．８％（ｎ＝１１），方法的检出限分别为０．３、０．３、１．１５μｇ／ｇ。
【机 构】
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武汉大学化学系
【出 处】
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分析试验室
【发表日期】
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1998年1期
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