【摘 要】
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以工业硅酸钠和盐酸为原料 ,采用化学沉淀法制备出纳米二氧化硅。工艺条件为 :温度 2 5～ 35℃、p H值 4～ 6、反应液质量浓度 1.15 g/ L、反应时间 10 min,添加一定量表面活性剂
【机 构】
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以工业硅酸钠和盐酸为原料 ,采用化学沉淀法制备出纳米二氧化硅。工艺条件为 :温度 2 5～ 35℃、p H值 4～ 6、反应液质量浓度 1.15 g/ L、反应时间 10 min,添加一定量表面活性剂和分散剂。制得的二氧化硅 ,粒径 40～ 5 0 nm、比表面积大、分散性好、质量优良 ,已用于工业生产。
Industrial sodium silicate and hydrochloric acid as raw materials, the use of chemical precipitation nanosilica prepared. The technological conditions are as follows: the temperature is between 25 and 35 DEG C, the pH value is between 4 and 6, the reaction liquid mass concentration is 1.15 g / L and the reaction time is 10 min, and a certain amount of surfactant and dispersant are added. The obtained silica has a particle size of 40-500 nm, a large specific surface area, good dispersibility and good quality and has been used in industrial production.
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