溅射靶功率对氮化碳薄膜结构的影响

• 作 者: 高鹏 徐军 朴勇 丁万煜 邓新绿 王德和 董闯
• 机 构: 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
• 出 处: 真空科学与技术学报
• 发表日期: 2005年5期
• 关键词: 非平衡磁控溅射 拉曼光谱 X射线光电子谱 原子力显微镜 Unbalance magnetron sputtering Raman spectroscopy

利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在Si(100)上制备氮化碳薄膜,并对薄膜进行了拉曼(Raman)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子谱(XPS)等结构的表征.发现溅射靶功率对制膜工艺、薄膜的结构和表面形貌产生很大影响.随着溅射靶功率的增大,薄膜的沉积速率减小,表面粗糙度增大,薄膜结构中的sp2含量增加.