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深亚微米工艺下IC的EMC问题及其测量
深亚微米工艺下IC的EMC问题及其测量
来源 :电子产品世界 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tiancejiangjun
【摘 要】
:
引言产品的内在质量要靠每一层组件的EMC性能保证,在解决技术上应关注和克服产生EMC问题的原因.
【作 者】
:
潘松
李逍波
【机 构】
:
上海海尔集成电路公司上海海尔集成电路公司
【出 处】
:
电子产品世界
【发表日期】
:
2004年2期
【关键词】
:
EMC
集成电路
深亚微米工艺
电磁干扰
测试标准
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引言产品的内在质量要靠每一层组件的EMC性能保证,在解决技术上应关注和克服产生EMC问题的原因.
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