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金刚石薄膜光学镀层材料的应力特性研究
金刚石薄膜光学镀层材料的应力特性研究
来源 :光学与光电技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zondy_gongqi
【摘 要】
:
金刚石膜作为光学镀层时,应力的控制是一项关键技术,本文实验研究了金刚石膜和类金刚石膜作为光学镀层材料时的应力特性,并对此进行了分析.
【作 者】
:
王小兵
程勇
吕反修
王古常
孙斌
吝君瑜
杨武保
【机 构】
:
武汉军械士官学校光电技术研究所,北京科技大学材料工程学院
【出 处】
:
光学与光电技术
【发表日期】
:
2003年1期
【关键词】
:
金刚石膜
光学镀层
MPCVD
PLD
diamond film optical coating mpcvd pld
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金刚石膜作为光学镀层时,应力的控制是一项关键技术,本文实验研究了金刚石膜和类金刚石膜作为光学镀层材料时的应力特性,并对此进行了分析.
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