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１．０ｗｔ．％镉对铜基材料氧化膜的生长具有明显的抑制作用。０．１ｗｔ．％镧对铜基材料的抗氧化性能的提高也起到积极的促进作用。金刚石的加入急剧加速了Ｃｐ／ＣｕＣｄ材料氧化膜的生长速度。Ｃｐ／ＣｕＣｄ系材料的氧化膜生长规律不遵循抛物线定律，而呈立方规律生长。实际条件下氧化膜的生长规律是复杂的。
Cp／CuCd电接触材料大气氧化动力学研究
【摘 要】
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１．０ｗｔ．％镉对铜基材料氧化膜的生长具有明显的抑制作用。０．１ｗｔ．％镧对铜基材料的抗氧化性能的提高也起到积极的促进作用。金刚石的加入急剧加速了Ｃｐ／ＣｕＣｄ材料氧化膜的生长速度。Ｃｐ／ＣｕＣｄ系材料的氧化膜生长规
【机 构】
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史学工业大学材料学院,俄罗斯克拉斯诺雅尔斯克国立大学固体物理研究所
【出 处】
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电工合金
【发表日期】
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2000年3期
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