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采用等离子增强化学汽相淀积法制备了纳米硅薄膜材料，研究了工艺参数，如衬底温度，衬底直流偏压，反应气体流量比等对薄膜性能的影响。采用椭圆偏振光谱和有效介质近似法分析了薄膜结构。
PECVD法制备纳米硅薄膜材料
【摘 要】
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采用等离子增强化学汽相淀积法制备了纳米硅薄膜材料，研究了工艺参数，如衬底温度，衬底直流偏压，反应气体流量比等对薄膜性能的影响。采用椭圆偏振光谱和有效介质近似法分析了薄膜
【机 构】
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华中理工大学电子科学与技术系!湖北武
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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1999年5期
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