10,6μmGe-Ag-Ni空心波导射频溅射镀膜的一种新方法

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该文提出一种射频溅射镀膜的新方法,讨论了该方法对小孔径10.6μmGe-Ag-Ni空心波导制作的意义,利用该方法已制成样品,同时给出并比较了几个不同孔径样品的光透射率. In this paper, a new method of RF sputtering coating is proposed. The significance of this method for fabrication of hollow waveguide with 10.6μm Ge-Ag-Ni with small aperture is discussed. Samples prepared by this method have been given and compared with several different Light transmittance of the aperture sample.
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