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机械设计人员和LSI设计人员减小漏电流的对策,主要针对亚阈值漏电流.但是,对于65nm及以下的工艺,栅漏电流将使机械设计人员和LSI设计人员面临更大挑战.
绝缘膜薄膜化达到极限希望寄托于高k材料
【摘 要】
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机械设计人员和LSI设计人员减小漏电流的对策,主要针对亚阈值漏电流.但是,对于65nm及以下的工艺,栅漏电流将使机械设计人员和LSI设计人员面临更大挑战.
【机 构】
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《日经电子》记者
【出 处】
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电子设计应用
【发表日期】
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2004年9期
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