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文章介绍了采用磁控镀膜技术，在不同工艺参数下制备金属镍／SiO2光衰减片。重点研究气压、溅射时间．溅射功率等工艺参数对光衰减片组织结构及性能的影响。通过测试分析可知．利用磁控溅射可以制备出性能优良的金属镍／SiO2光衰减片。
基手磁控溅射法制备镍／SiO2光衰减片
【摘 要】
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文章介绍了采用磁控镀膜技术，在不同工艺参数下制备金属镍／SiO2光衰减片。重点研究气压、溅射时间．溅射功率等工艺参数对光衰减片组织结构及性能的影响。通过测试分析可知．利用磁
【机 构】
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哈尔滨理工大学材料科学与工程学院
【出 处】
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中国玻璃
【发表日期】
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2013年5期
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