【摘 要】
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研究了 Ni/ Pd双层薄膜在硅衬底上的硅化物形成过程 .结果表明 ,加入 Pd层后 ,退火形成 Ni1 - x Pdx Si固熔体 ,该固熔体比 Ni Si的热稳定性好 ,使得 Ni Si向 Ni Si2 的转变
【机 构】
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复旦大学微电子学系ASIC和系统国家重点实验室,复旦大学微电子学系ASIC和系统国家重点实验室,复旦大学微电子学系ASIC和系统国家重点实验室,Departement of Solid State S
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研究了 Ni/ Pd双层薄膜在硅衬底上的硅化物形成过程 .结果表明 ,加入 Pd层后 ,退火形成 Ni1 - x Pdx Si固熔体 ,该固熔体比 Ni Si的热稳定性好 ,使得 Ni Si向 Ni Si2 的转变温度升高 .加入 Pd的量越多 ,Ni Si2 的成核温度越高 ,并用经典成核理论解释了该现象 .
The formation of silicide on the Ni / Pd bilayer thin film was studied.The results show that the Ni1 - xPdxSi solid solution annealed after adding Pd, the thermal stability of the solid solution is better than Ni Si , So that the transition temperature of Ni Si to Ni Si2 is increased.The more the amount of Pd is added, the higher the nucleation temperature of Ni Si2, and the phenomenon is explained by classical nucleation theory.
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