Structural evolution and optical characterization in argon diluted Si：H thin films obtained by plasm

• 作 者: 李志 何剑 李伟 蔡海洪 龚宇光 蒋亚东
• 机 构: SchoolofOptoelectronicInformation,StateKeyLaboratoryofElectronicThinFilmsandIntegratedDevices
• 出 处: 中南大学学报：英文版
• 发表日期: 2010年6期
• 关键词: NANOCRYSTALLIZATION 血浆提高了化学蒸汽免职(PECVD ) hydrogenated 硅(Si : H ) nanocrystallizat
• 基金项目: Foundation item： Project（60425101） supported by the National Outstanding Young Scientists Foundation of China, Project（06DZ0241） supported by theScience Foundation of General Armament Department of Ch

结构的进化和 hydrogenated 硅的光描述( Si : H )频率( RF )血浆提高了的常规无线电获得的薄电影通过 silane 的分解的化学蒸汽免职( PECVD )与氩冲淡了被X光检查 diffractometry ( XRD )学习， Fourier 变换红外线( FTIR )光谱学，拉曼光谱学，传播电子显微镜学( TEM )，并且紫外、可见(紫外力)光谱学分别地。薄电影的光性质上的氩冲淡的影响也被学习。当冲淡气体在 Si 在 nano 水晶谷物和非结晶的网络的生长起一个重要作用，它被发现