【摘 要】
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改变基片转速，连续外延生长了双层磁光薄膜，其折射率之差小于１０￣（－２），用ＮｉＣｒ膜作掩膜，在双层磁光薄膜进行离子束刻蚀，制作了宽度为２０μｍ，长度为６ｍｍ，高度为的０．９μｍ的脊形波导，并在此波导上进行了光传输实验
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改变基片转速，连续外延生长了双层磁光薄膜，其折射率之差小于１０￣（－２），用ＮｉＣｒ膜作掩膜，在双层磁光薄膜进行离子束刻蚀，制作了宽度为２０μｍ，长度为６ｍｍ，高度为的０．９μｍ的脊形波导，并在此波导上进行了光传输实验。
Change the substrate speed, continuous epitaxial growth of double-layer magneto-optical thin film, the difference between the refractive index of less than 10 ~ (-2), with NiCr film as a mask, ion beam etching in the double layer of the magneto-optical film, A ridge waveguide of 20 μm, a length of 6 mm and a height of 0.9 μm, and an optical transmission experiment was conducted on this waveguide.
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