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针对紫外纳米压印工艺，采用有限元软件对光刻胶的流变填充过程进行了模拟．根据紫外压印中光刻胶黏度系数小的特点，建立了基于黏性流体的模型，采用流固耦合的ALE（ArbitraryLagrangeEuler）方法，系统分析了模板的周期性、占空比、深宽比及非周期结构对光刻胶填充效果的影响．结果表明，相对于非周期模板，周期结构的模板所能引起的图形转移缺陷小；占空比及深宽比对小周期模板比大周期模板的影响大．进行了纳米压印实验，实验结果与仿真结果吻合，说明了仿真的可信，可以作为模板结构设计及表面处理工艺的依据．