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采用射频磁控溅射技术在不锈钢基底上制备NiCr金属薄膜，研究不同的氩气压强对样品形貌和光学、附着力性能的影响。结果表明：所制备的NiCr薄膜在中远红外区都具有较高的反射率，平均值约为0．92，附着力级别均能达到5B；氩气压强对薄膜的性能具有较大的影响，具体表现为：随着压强的增大，薄膜的结晶度先上升后下降，均匀性先变好后变坏，在压强为4Pa时薄膜质量最好。