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【摘 要】
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用磁控溅射法在室温条件下制备了Al膜、Ga2O3膜及Ga2O3／Al／Ga2O3三层膜，对其光学和电学性能进；行了表征,单层Al膜厚度大于7nm时，光学透射率在近紫外光区域大于可见光区域；Ga2O3膜在
【机 构】
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鲁东大学物理与电子工程学院
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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2009年10期
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