【摘 要】
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反应离子束刻蚀(RIBE)是目前最有希望实现亚微米级图形刻蚀的方法之一,电子迴旋共振(ECR)离子源是七十年代末为适应RIBE而发展起来的一种新型宽束微波离子源,由于它是一种无
【机 构】
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清华大学无线电电子学系,清华大学无线电电子学系,清华大学无线电电子学系
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反应离子束刻蚀(RIBE)是目前最有希望实现亚微米级图形刻蚀的方法之一,电子迴旋共振(ECR)离子源是七十年代末为适应RIBE而发展起来的一种新型宽束微波离子源,由于它是一种无电极放电,微波场与电子有高效率的能量交换,因而具有在强腐蚀气体下稳定地形或高密度离子束等一系列优点。本文介绍了ECR源的发展概况,工作原理和几种为RIBE用ECR源的结构特征参数。
Reactive ion beam etching (RIBE) is one of the most promising methods to achieve submicron patterning at present. Electron cyclotron resonance (ECR) ion source is a new type of wide beam developed in the late seventies for RIBE Microwave ion source, because it is an electrodeless discharge, the microwave field and the electronic energy exchange with high efficiency, and thus has a strong corrosive gas or high-density stable topography ion beam and a series of advantages. This article presents an overview of ECR source development, working principles, and several structural characteristics of ECR sources for RIBE.
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