用化学方法制备硅场发射阵列

• 作 者: 元光 金长春 金亿鑫 宋航 荆海 朱希玲 张宝林 周天明 宁永强 蒋红 王惟彪
• 机 构: 中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理研究所,中国科学院长春物理
• 出 处: 发光学报
• 发表日期: 1996年04期
• 关键词: 场发射 真空微电子 SEM 工艺参数 尖形 腐蚀液 冷阴极 掩膜 湿氧氧化 硅衬底

利用各向同性腐蚀液制备了硅微尖阵列,并考察了各主要工艺参数对微尖形貌的影响

The silicon micro-tip array was prepared by isotropic etching solution, and the influence of the main process parameters on the micro-tip morphology was investigated