射频磁控溅射法制备NiAl纳米晶化合物涂层

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介绍一种利用射频磁控溅射法和一个由纯Ni和纯Al合成的特制靶材制备NiAl纳米晶涂层的新工艺,涂层可沉积在工业纯铝、不锈钢以及硼硅酸盐玻璃等多种基体上。XRD 、TEM和SAED分析表明,该涂层呈规则的立方晶体结构,晶粒尺寸<10nm,且沉积在硼硅酸盐玻璃上的涂层具有(111)择尤取向,涂层厚度约10μm。
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