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采用多弧离子镀工艺在钛合金或低碳钢基材上制备TiN薄膜，研究了不同偏压及不同氮分压下制备的薄膜相结构、残余应力、膜／基体系硬度、膜／基结合及其摩擦磨损行为。结果表明：偏压影响TiN晶粒的择优取向，偏压绝对值越大则薄膜内部的残余应力也越大；偏压过高或过低都会降低薄膜与基材之间的结合强度，从而影响其摩擦学性能。氮分压上升，TiN熔滴粒度变大，Ti2N相减少，导致薄膜硬度提高；由过高或过低氮分压制备的膜／基体系在划痕试验中测得的临界载荷均较小；随着氮分压的增加，在试验范围内样品的摩擦因数下降但耐磨性并未获得预期