【摘 要】
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由于汞压难于控制,碲镉汞液相外延中汞压的控制被认为是该工艺成败的关键之一。用充H_2和附加HgTe控制汞源形成所谓增压液相外延,能够有效地解决汞压控制问题。对此,本文从理
【机 构】
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航空航天工业部三院八三五八所,航空航天工业部三院八三五八所,
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由于汞压难于控制,碲镉汞液相外延中汞压的控制被认为是该工艺成败的关键之一。用充H_2和附加HgTe控制汞源形成所谓增压液相外延,能够有效地解决汞压控制问题。对此,本文从理论上作以定性的初步探讨,并且用该方法在(111)CdZnTe单晶衬底上外延生长出组分x=0.18的Hg_(1-x)Cd_xTe单晶膜。
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