在基体表面生成硬质氧化铝膜

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日本特开昭61-079760A,利用蒸发的金属铝和反应气体氧,通过在特定条件下的活性反应离子电镀法,在基体上覆盖努普硬度值高于2000的硬氧化铝膜,离子镀条件:电子枪输出10kv,500~550mA,氧气压力9.3~13.3×10~(-3)P_5,基体电压0.3 Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 61-079760A, a hard aluminum oxide film having a Knoop hardness value higher than 2000 is coated on a substrate by an active reactive ion plating method under the specific conditions using vaporized metallic aluminum and reactive gas oxygen, ion plating conditions : Electron gun output 10kv, 500 ~ 550mA, oxygen pressure 9.3 ~ 13.3 × 10 ~ (-3) P_5, the substrate voltage 0.3
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