更低温度下和重复再生时NiO/SiO_2催化剂上甲苯完全氧化反应(英文)

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采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO_2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理.将制得的这两种Ni/SiO_2样品用于催化甲苯分子吸附及其氧化为CO_2的反应中.结果发现,在450°C热处理的样品在甲苯吸附及其随后氧化为CO_2的反应中表现出更高的活性;当将该样品暴露在160°C甲苯蒸气中,然后加热到450°C时,排放出CO_2,而几乎没有甲苯脱附出来.这表明该催化剂可用于在200°C以下操作的、用于消除建筑物内有味气体的设备中,且该催化剂可以在450°C下经过热处理得到再生. NiO was deposited by atomic layer deposition on the shell (shell thickness 11 nm) of the mesoporous SiO 2 particles with a diameter of about 100 mm and an average pore diameter of 14 nm and heat treated at 450 and 600 ° C. The The two Ni / SiO 2 samples prepared were used to catalyze the molecular adsorption of toluene and its oxidation to CO 2. The results showed that the sample heat-treated at 450 ° C showed more reaction in toluene adsorption and its subsequent oxidation to CO 2 High activity; when this sample was exposed to 160 ° C toluene vapor and then heated to 450 ° C, CO 2 was emitted with almost no toluene desorption, indicating that the catalyst can be used for operation below 200 ° C , Used to eliminate odors in the building equipment, and the catalyst can be heat treated at 450 ° C to be regenerated.
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