Ln0．5Sr0.5CoO3-δ薄膜的显微结构及其电学性能研究

• 作 者: 张利文 丁铁柱 王强 姜涛
• 机 构: 内蒙古大学理工学院物理系
• 出 处: 内蒙古大学学报(自然科学版)
• 发表日期: 2007年4期
• 关键词: Ln0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜 XRD 电导率 Ln0．5Sr0.5CoO3-δ thin film XRD conductivity

采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆（YSZ）衬底上溅射Ln0．5Sr0.5CoO3-δ（Ln=La，Pr，Nd）薄膜，测试了不同工艺制备的Ln0．5Sr0.5CoO3-δ薄膜样品的XRD谱和电导率．分析了薄膜显微结构以及电输运机理．结果表明：在YSZ衬底上生长的Ln0．5Sr0.5CoO3-δ薄膜经过750℃热处理后，主要沿〈110〉方向生长；Ln0．5Sr0.5CoO3-δ薄膜直流电导率的Arrhenius曲线近似直线，表明材料的导电行为符合小极化子导电机制．在所研究的样品中Ln0．5Sr0.5CoO