【摘 要】
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CR-39经离子辐照后会形成潜径迹,其径迹蚀刻斑几何尺寸由蚀刻速率比V决定,其蚀刻速率比V不仅与CR-39的生产厂家、生产批次和蚀刻条件相关,且与入射离子在CR-39中的受限能损有
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CR-39经离子辐照后会形成潜径迹,其径迹蚀刻斑几何尺寸由蚀刻速率比V决定,其蚀刻速率比V不仅与CR-39的生产厂家、生产批次和蚀刻条件相关,且与入射离子在CR-39中的受限能损有单值对应关系,因此利用加速器已知能量的离子束流辐照CR-39,获得受限能损和CR-39径迹过剩蚀刻速率比的刻度曲线,可对CR-39进行
The potential trace of CR-39 is formed by ionizing radiation. The geometrical size of the track etched spots is determined by the etching rate V, which is not only related to the CR-39 manufacturer, the production lot and the etching conditions, And there is a one-value correspondence between the limiting energy loss of incident ions in CR-39. Therefore, CR-39 was irradiated by ion beam with accelerator of known energy to obtain the limited energy loss and CR-39 track excess etching rate Than the scale curve, CR-39 can be carried out
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