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用直流反应磁控溅射法，进行了连续充氧和不同周期间断充氧方式在玻璃基片上沉积ＴｉＯ２膜的实验，用得到的最佳间断充氧条件，ＴｉＯ２膜沉积速率是连续充氧条件的１．８倍，ＴｉＯ２膜组分，深度分布及理化性能与连续充氧无明显区别。
间断充氧提高TiO2膜沉积速率的研究
【摘 要】
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用直流反应磁控溅射法，进行了连续充氧和不同周期间断充氧方式在玻璃基片上沉积ＴｉＯ２膜的实验，用得到的最佳间断充氧条件，ＴｉＯ２膜沉积速率是连续充氧条件的１．８倍，ＴｉＯ２膜组分，深度分布及理化性能与连
【机 构】
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东北大学
【出 处】
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表面技术
【发表日期】
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1999年2期
【基金项目】
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辽宁省自然科学基金资助项目
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