【摘 要】
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镀膜均匀性是脉冲真空电弧离子源应用需要解决的一个重要问题.本文首先分析了在脉冲真空电弧离子镀膜过程中,采用不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸引起所镀膜层透过率曲线的改
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镀膜均匀性是脉冲真空电弧离子源应用需要解决的一个重要问题.本文首先分析了在脉冲真空电弧离子镀膜过程中,采用不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸引起所镀膜层透过率曲线的改变,进而讨论了脉冲真空电弧离子源电极几何尺寸对膜厚均匀性的影响.在基片下加一个圆筒形负电位电极,实现了脉冲真空电弧离子源镀膜的均匀性.实验结果表明,采用这一技术,在φ70 mm范围内,基片透过率的相对变化可达到±6.8%范围内.
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