弛豫时间对双势垒结构电子输运性质的影响(英文)

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sophiea123456
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利用对双势垒器件非平衡态电子输运性质的含时动力学模拟计算,分析了弛豫时间对这类低维器件电子输运特性的影响.结果表明,由于电子声子、电子杂质和电子缺陷等相互作用导致的弛豫时间对器件IV曲线产生很大的影响,即电流滞后类平台结构的倾斜度以及电流滞后区的宽度. The influence of relaxation time on the electron transport properties of these low-dimensional devices is analyzed by using the time-dependent dynamic simulation of the non-equilibrium state electron transport properties of the double-barrier devices. The results show that due to the electronic phonon, The relaxation time caused by the interaction of electron defects and so on has a great influence on the IV curve of the device, that is, the slope of the current lagging type platform structure and the width of the current lagging region.
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