Ar^＋刻蚀对MoS2润滑膜分子结构的影响

来源 :摩擦学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dingdingdeaiqing85

【摘要】

：

采用Ar+离子溅射源进行XPS和AES 剖面分析，结果发现,Ar+对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx，Mo原子被还原，Mo3d结合能值向低端位移约1.7 eV

【作者】

：

齐尚奎余来贵吕晋军杨生荣

【机构】

：

中国科学院兰州化学物理研究所

【出处】

：

摩擦学学报

【发表日期】

：

2001年1期

【关键词】

：

氩离子溅射择优刻蚀 XPS AES 二硫化钼润滑膜 ArgonCoatingsCrystal structureEtchingIon beam lithogr

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采用Ar+离子溅射源进行XPS和AES 剖面分析，结果发现,Ar+对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx，Mo原子被还原，Mo3d结合能值向低端位移约1.7 eV.应该注意的是,采用Ar+溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态，S/Mo 原子比同实验值之间亦存在差异,故应采用有关软件对实验结果进行修正

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