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基于干/湿法腐蚀的自对准SiGe HBT器件
基于干/湿法腐蚀的自对准SiGe HBT器件
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jian85733547
【摘 要】
:
采用干/湿法腐蚀相结合技术,利用氢氧化钾(KOH)溶液和六氟化硫(SF6)对Si及SiGe材料进行腐蚀,研究自对准Si/SiGe HBT台面器件,获得了fT=40GHz,fmax=127.1GHz的结果.
【作 者】
:
刘道广
郝跃
徐世六
李开成
李培咸
张晓菊
张金凤
郑雪峰
【机 构】
:
西安电子科技大学微电子所,西安电子科技大学微电子所,中国电子科技集团电子24所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2005年1期
【关键词】
:
自对准
SIGE材料
干/湿法腐蚀
self-alignSiGe materialdry-wet etching
【基金项目】
:
国防预研基金资助项目 (批准号 :99JS0 9.2 .6.DZ3 40 3 )~~
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采用干/湿法腐蚀相结合技术,利用氢氧化钾(KOH)溶液和六氟化硫(SF6)对Si及SiGe材料进行腐蚀,研究自对准Si/SiGe HBT台面器件,获得了fT=40GHz,fmax=127.1GHz的结果.
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