采用空心热阴极放电方法物理气相沉积铬和钛的氯化物

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采用空心热阴极放电(HCD)方法实行了铬和钛的氨化物的反应离子镀,研究表明沉积在基体上的硬度是温度施加于基体的偏压和氮气分压的函数。 为了使放电维持在 1.5 × 10-3托的水平,通过电子枪向容器引入 30cm3(STP)min-1的氩流量,这个枪是由内径为4mm的钽管制成,管的壁厚为0.5mm, Reactive ion plating of the chromium and titanium amides was performed using the hollow hot cathode discharge (HCD) method. Studies have shown that the hardness deposited on the substrate is a function of the temperature bias applied to the substrate and the partial pressure of nitrogen. To maintain the discharge at a level of 1.5x10-3 Torr, a argon flow of 30 cm3 (STP) min-1 was introduced into the vessel through an electron gun made from a 4 mm inner diameter tantalum tube having a wall thickness of 0.5 mm,
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