【摘 要】
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在SPF－430H射频磁控溅射系统上用反应溅射方法制备TiN薄膜．研究了制备工艺，讨论了薄膜的光学性能与溅射工艺参数的关系．实验结果表明，在优化制备工艺基础上能制备出具有优良光学性
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在SPF－430H射频磁控溅射系统上用反应溅射方法制备TiN薄膜．研究了制备工艺，讨论了薄膜的光学性能与溅射工艺参数的关系．实验结果表明，在优化制备工艺基础上能制备出具有优良光学性能（高折射率、高透射率）的TiN薄膜．
TiN films were prepared by reactive sputtering on SPF-430H RF magnetron sputtering system. The preparation process was studied, and the relationship between the optical properties and sputtering process parameters was discussed. The experimental results show that the TiN film with excellent optical properties (high refractive index and high transmittance) can be prepared on the basis of optimizing the preparation process.
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