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本文报导用紫外写入法制备SiO2平面光波导的理论基础，工艺过程和实验结果。介绍了含光敏层的多层SiO2平面光波导的材料和掩膜的制备方法，紫外写入的设备与工艺，用这种新方法制备出性能良好的直波导和Y分叉光波导。
紫外写入SiO2平面光波导制作新方法研究（三）：光波导制作
【摘 要】
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本文报导用紫外写入法制备SiO2平面光波导的理论基础，工艺过程和实验结果。介绍了含光敏层的多层SiO2平面光波导的材料和掩膜的制备方法，紫外写入的设备与工艺，用这种新方法制备
【机 构】
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中国科学院半导体研究所,中国建筑材料科学研究院玻璃所
【出 处】
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光子学报
【发表日期】
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2000年Z01期
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