【摘 要】
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日本理研计器公司开发用紫外线分析薄片(Wafer)表面状态的新仪器—“AC—1”。该仪器可在常温常压的大气气氛中,测定纯金属、合金、半导体、有机物等表面上保护层、有机物沾
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日本理研计器公司开发用紫外线分析薄片(Wafer)表面状态的新仪器—“AC—1”。该仪器可在常温常压的大气气氛中,测定纯金属、合金、半导体、有机物等表面上保护层、有机物沾污层以及氧化膜和氮化膜的厚
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