【摘 要】
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利用Ｘ－射线光电子能谱对Ｎｉ－Ｍｏ沉积层表层中Ｎｉ、Ｍｏ的存在形式进行了分析，并对其表面进行了Ａｒ＋离子刻蚀深度分析。结果表明：Ａｒ＋离子未溅射时，沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ分别以Ｎｉ（ＯＨ）２和ＭｏＯ３（或ＭｏＯ２－４）形式存在：Ａｒ＋离子溅射３ｍｉｎ后，沉积层中的Ｎｉ和
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利用Ｘ－射线光电子能谱对Ｎｉ－Ｍｏ沉积层表层中Ｎｉ、Ｍｏ的存在形式进行了分析，并对其表面进行了Ａｒ＋离子刻蚀深度分析。结果表明：Ａｒ＋离子未溅射时，沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ分别以Ｎｉ（ＯＨ）２和ＭｏＯ３（或ＭｏＯ２－４）形式存在：Ａｒ＋离子溅射３ｍｉｎ后，沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ分别以ＮｉＯ和ＭｏＯ２形式存在；Ａｒ＋离子溅射１５ｍｉｎ后，沉积层中的Ｎｉ和Ｍｏ分别以单质Ｎｉ和单质Ｍｏ形式存在
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