【摘 要】
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1 前言rn 真空紫外波长为受控低温表面过程找到新的途径。它对表面键直接进行电子激发，使其进入反键状态，而紫外光子则不行。以氢气在F2激光诱导下从Si(111)-(1×1)∶H表面解吸
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1 前言rn 真空紫外波长为受控低温表面过程找到新的途径。它对表面键直接进行电子激发，使其进入反键状态，而紫外光子则不行。以氢气在F2激光诱导下从Si(111)-(1×1)∶H表面解吸为例。在这一表面上，每一表面硅原子的悬挂键都由一个氢原子饱和，键合的方向(308 nm,4 eV)垂直于表面。用XeCl激光(308 nm)，4 eV的光子辐照表面，如果表面被积分通量大于100 mJ/cm2的激光加热到至少850 K，将导致热激发的氢气解吸。而F2激光7.9 eV的光子则允许在极低的激光脉冲能量(5 mJ/cm2)下发生解吸，避免了大量加热(小于20 K)。
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