【摘 要】
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采用土柱模拟试验和大田调查相结合的方法,研究了不同灌溉方式下温室嫁接黄瓜根系分布特征,结果表明:膜下暗灌和滴水灌溉温室黄瓜根系干重最大值分别出现在黄瓜定植后180 d和
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采用土柱模拟试验和大田调查相结合的方法,研究了不同灌溉方式下温室嫁接黄瓜根系分布特征,结果表明:膜下暗灌和滴水灌溉温室黄瓜根系干重最大值分别出现在黄瓜定植后180 d和210 d,黄瓜拔蔓时根系干重后者较前者高29.0%.黄瓜不同发育时期根系垂直分布特征有明显差异,在初瓜期前,0～20 cm根系干重前者明显高于后者,20 cm以下根系干重二者无明显差异;结瓜盛期以后,0～20 cm根系干重二者差异不明显,20 cm以下根系干重后者显著高于前者.膜下暗灌和滴水灌溉黄瓜根系水平分布在0～15 cm,分别占总根干重的96.6%、94.2%.随着黄瓜生长发育的推进,膜下暗灌内侧根系分布数量逐渐下降,结瓜期以前内侧根系占植株根系总数量的61.1%,中后期占15.6%;而滴灌黄瓜全发育期,内外侧根系分布数量比较均衡.说明灌水方式对温室嫁接黄瓜根系分布特征有显著影响.
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