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TSMC近日宣布针对65纳米、40纳米及28纳米工艺推出已统合且可交互操作的多项电子设计自动化技术档案。这些与设计相关的技术档案套装包括可互通的工艺设计套件（iPDK）、工艺设计规则检查（iDRC）、集成电路布局与电路图对比（iLVS），及工艺电容电阻抽取模组（iRCX）。
TSMC推出65、40与28纳米之互通式电子设计自动化格式
【摘 要】
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TSMC近日宣布针对65纳米、40纳米及28纳米工艺推出已统合且可交互操作的多项电子设计自动化技术档案。这些与设计相关的技术档案套装包括可互通的工艺设计套件（iPDK）、工艺设计
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2010年5期
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