【摘 要】
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在晶圆制造的良率维持、缺陷的侦测与再检查,目前的检测方法,很难提供高侦测感度,与高取样率,全芯片扫描,快速产能,并维持低成本.传统的检测方法,分别以高感度的明视场检查,
【机 构】
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Powerchip Semiconductor Co, Hsin-Chu, Taiwan, R.O.C.Applied Materials Taiwan, Hsin-Chu, Taiwan, R.O.
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在晶圆制造的良率维持、缺陷的侦测与再检查,目前的检测方法,很难提供高侦测感度,与高取样率,全芯片扫描,快速产能,并维持低成本.传统的检测方法,分别以高感度的明视场检查,与高产能的暗视场检查,无法再满足缺陷检查需求,特别是在大量晶圆产出的环境.在此,由力晶半导体提出创新的缺陷检查策略,即整合明视野/暗视野检查机台,并最佳化,以使产出最大化,异常缺陷反应快速化等目标.
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