【摘 要】
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半导体工艺检测设备厂商KLA-Tencor日前宣布加入由Sematech主导的一项研究计划,该技术通过利用Albany大学纳米科技中心的实验室,来寻找降低EUV光刻工艺中的缺陷的途径,其中包
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半导体工艺检测设备厂商KLA-Tencor日前宣布加入由Sematech主导的一项研究计划,该技术通过利用Albany大学纳米科技中心的实验室,来寻找降低EUV光刻工艺中的缺陷的途径,其中包括缺陷来源的检定、缺陷的消除等。在大规模生产中采用EUV光刻工艺已经被推迟了好几次,Sematech预计,
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