【摘 要】
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本文较详细地研究了分子电镀法定量沉积铀和钚的各种条件,推荐了一个定量制备铀和钚标准源(或靶)的程序。在推荐的条件下,铀和钚的平均沉积率大于99%,定量误差为±1%。镀层的
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本文较详细地研究了分子电镀法定量沉积铀和钚的各种条件,推荐了一个定量制备铀和钚标准源(或靶)的程序。在推荐的条件下,铀和钚的平均沉积率大于99%,定量误差为±1%。镀层的均匀性和牢固性测量表明,镀层的质量能满足裂变产额等核参数测量和α能谱测量的要求。
In this paper, the various conditions for the quantitative deposition of uranium and plutonium by molecular plating are studied in more detail. A procedure for the quantitative preparation of uranium and plutonium standard sources (or targets) is recommended. Under the recommended conditions, the average deposition rate of uranium and plutonium is greater than 99% and the quantitative error is ± 1%. Coating uniformity and firmness measurements show that the quality of the coating can meet the nuclear parameters such as fission yield and α energy spectrum measurement requirements.
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