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【摘 要】
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激光直写系统是制作光刻掩模和ASIC器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了男内第一台激光直写系统，利用这台系统，通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所
【出 处】
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世界产品与技术
【发表日期】
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2002年10期
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